Japanese
English
特集 先端科学技術と公衆衛生
先端技術産業における公害防止対策
吉田 文和
1
Fumikazu YOSHIDA
1
1北海道大学経済学部
pp.826-829
発行日 1989年12月15日
Published Date 1989/12/15
DOI https://doi.org/10.11477/mf.1401208076
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■シリコンバレーのハイテク汚染
最近，アメリカのシリコンバレーの例などから，ハイテク産業は必ずしも「クリーン」でないことが明らかとなってきた．問題の発端となったのは，半導体企業の老舗・フェアチャイルド社サンノゼ工場の使用済有機溶剤1・1・1・トリクロロエタンが地下貯蔵タンク（強化プラスチック製）から漏れ，それが600メートル離れた井戸水を汚染し，付近の住民に心臓病などの先天異常を多発させたとして，1982年に訴えられた事件である（図1参照）．
これをきっかけにして，約250を越える半導体工場を含むシリコンバレーのハイテク工場が徹底的に調べられた結果，約80パーセントの地下貯蔵タンクから漏れが発見されたのである．
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