先端技術産業における公害防止対策

■シリコンバレーのハイテク汚染

　最近，アメリカのシリコンバレーの例などから，ハイテク産業は必ずしも「クリーン」でないことが明らかとなってきた．問題の発端となったのは，半導体企業の老舗・フェアチャイルド社サンノゼ工場の使用済有機溶剤1・1・1・トリクロロエタンが地下貯蔵タンク（強化プラスチック製）から漏れ，それが600メートル離れた井戸水を汚染し，付近の住民に心臓病などの先天異常を多発させたとして，1982年に訴えられた事件である（図1参照）．

　これをきっかけにして，約250を越える半導体工場を含むシリコンバレーのハイテク工場が徹底的に調べられた結果，約80パーセントの地下貯蔵タンクから漏れが発見されたのである．