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Neurological Surgery No Shinkei Geka Volume 50, Issue 2 （March 2022）

Neurological Surgery 脳神経外科 50巻2号（2022年3月発行）

Japanese English

特集水頭症—脳脊髄液動態への理解と治療に迫る

Ⅲ水頭症の治療

シャントデバイスの原理と選択のエビデンス Basic Knowledge and Current Evidence on Cerebrospinal Shunt Devices 喜多大輔 ¹ Daisuke KITA ¹ ¹公立能登総合病院脳神経外科 ¹Department of Neurosurgery, Noto General Hospital キーワード：差圧バルブ , 頭蓋内圧 , 抗サイフォンデバイス , 抗菌カテーテル , スマートシャント , differential pressure valves , intracranial pressure , antisiphon devices , antibacterial catheters , smart shunt Keyword: 差圧バルブ , 頭蓋内圧 , 抗サイフォンデバイス , 抗菌カテーテル , スマートシャント , differential pressure valves , intracranial pressure , antisiphon devices , antibacterial catheters , smart shunt pp.331-347

発行日 2022年3月10日 Published Date 2022/3/10

DOI https://doi.org/10.11477/mf.1436204561

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Abstract 文献概要
1ページ目 Look Inside
参考文献 Reference

Point

・差圧バルブはバルブ両端の圧較差によって開閉する．

・シャント設置後の頭蓋内圧は頭蓋外環境に連動して変化する．

・抗サイフォンデバイスとして流量調整機構と重力バルブ機構がある．

・抗菌カテーテルには使用を推奨するエビデンスがある．

・常時モニタリング可能な次世代シャントが開発中である．

　Revision surgeries after cerebrospinal shunt placement are sometimes unavoidable mainly because of the mechanical limitations of current shunt devices despite their technological improvements. This article discusses evidence on existing shunt devices, basic knowledge on their structure and function, and possible future issues.